三星開發新材料a-BN，次世代半導體有望加速現身 - 科技新報 TechNews

bosaboca.blogspot.com

• 
• 

三星先進技術研究院（Samsung Advanced Institute of Technology，簡稱 SAIT）研發出新的半導體材料──「非晶質氮化硼」（amorphous boron nitride，簡稱 a-BN），有望讓次世代半導體加速現身。

三星官網 6 日新聞稿稱，SAIT、南韓蔚山國家科學技術研究院（Ulsan National Institute of Science and Technology）、英國劍橋大學，合力發現了新材料 a-BN，此一結果刊載於知名科學期刊《Nature》。

SAIT 致力於發展 2D 材料，也就是只有一層原子的晶體材料。該機構持續研究石墨烯，在石墨烯電晶體以及如何製作大型單晶的晶圓級石墨烯方面，達成了破天荒的研究成果。

SAIT 石墨烯計畫主管和主要研究員 Hyeon-Jin Shin 說：「為了加強石墨烯和以矽為基礎半導體製程的相容性，要在半導體基板上生成晶圓級石墨烯，必須在攝氏 400 度以下的低溫進行。」

新發現的材料名為 a-BN（見下圖），從白色石墨烯淬鍊而出，內部的氮和硼原子成六角形排列，但是分子結構與白色石墨烯相當不同。a-BN 介電常數（dielectric constant）極低，只有 1.78，並有強大的電子和機械特質，能做為隔絕材料，讓電子干擾最小化。a-BN 可望廣泛用於 DRAM、NAND 記憶體，特別是大型伺服器的次世代記憶體解決方案。

（Source：三星）

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：shutterstock）

延伸閱讀：

• 我們離石墨烯電池時代還有多遠？

---

科技新知，時時更新

科技新報粉絲團 訂閱免費電子報

---

關鍵字: a-BN , 三星 , 半導體 , 石墨烯

Let's block ads! (Why?)

July 06, 2020 at 01:14AM
https://ift.tt/3e6ge4C

三星開發新材料a-BN，次世代半導體有望加速現身 - 科技新報 TechNews

https://ift.tt/3hLZYZQ